小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪，配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选，用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧，功能出色、配置齐全，兼容超净间，性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等，广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪，配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选，用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧，功能出色、配置齐全，兼容超净间，性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等，广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
技术参数：
设备名称 | 分体式单靶磁控溅射仪 |
电源 | AC220V/50HZ |
射频电源（选配） | 输入电源：220V |
输入功率：0-300W | |
输入频率：13.56MHZ | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
直流电源（选配） | 输入电源：220V |
直流输出功率：0-500W | |
最大工作电流：0.75A | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法兰盖为304不锈钢材质，上法兰盖为铝材质 | |
腔室极限真空度 | |
配置机械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法兰盖上带有手动泄压阀 | |
样品台 | 一个直径为⌀50mm的不锈钢样品台，样品台可转动，旋转速率为0.5-5RPM/min |
样品台标配加热功能，样品台最高加热温度500℃ | |
可以根据客户需要选配样品台冷却功能，样品台冷却最低温度5℃ | |
溅射靶头 | 标配2尺寸的磁控溅射头，内部嵌有冷却水管，可以通水冷实现对磁钢和靶材的冷却，从而能够可以长时间进行溅射 |
配有一手动操作的挡板，当第一次溅射清楚靶材表面的氧化层和污物层，挡住基片，防止污染基片 | |
样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围60-80mm（可根据客户要求选配1英寸的磁控溅射头） | |
靶材 | 设备配有一块铜靶材，尺寸：⌀50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根据客户要求选配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：⌀50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主机尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保质期 | 1年（不包含喷头、加热元件、注射器等损耗件） |
小型磁控溅射仪通常采用磁控溅射技术，具有结构紧凑、操作简便、性能稳定等特点。其核心部件包括溅射靶材、磁场系统、真空室、气体供应系统和控制系统等。在溅射过程中，通过调整磁场、气体压力和溅射功率等参数，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪，配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选，用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧，功能出色、配置齐全，兼容超净间，性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等，广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
技术参数：
设备名称 | 分体式单靶磁控溅射仪 |
电源 | AC220V/50HZ |
射频电源（选配） | 输入电源：220V |
输入功率：0-300W | |
输入频率：13.56MHZ | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
直流电源（选配） | 输入电源：220V |
直流输出功率：0-500W | |
最大工作电流：0.75A | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法兰盖为304不锈钢材质，上法兰盖为铝材质 | |
腔室极限真空度 | |
配置机械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法兰盖上带有手动泄压阀 | |
样品台 | 一个直径为⌀50mm的不锈钢样品台，样品台可转动，旋转速率为0.5-5RPM/min |
样品台标配加热功能，样品台最高加热温度500℃ | |
可以根据客户需要选配样品台冷却功能，样品台冷却最低温度5℃ | |
溅射靶头 | 标配2尺寸的磁控溅射头，内部嵌有冷却水管，可以通水冷实现对磁钢和靶材的冷却，从而能够可以长时间进行溅射 |
配有一手动操作的挡板，当第一次溅射清楚靶材表面的氧化层和污物层，挡住基片，防止污染基片 | |
样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围60-80mm（可根据客户要求选配1英寸的磁控溅射头） | |
靶材 | 设备配有一块铜靶材，尺寸：⌀50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根据客户要求选配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：⌀50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主机尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保质期 | 1年（不包含喷头、加热元件、注射器等损耗件） |
小型磁控溅射仪通常采用磁控溅射技术，具有结构紧凑、操作简便、性能稳定等特点。其核心部件包括溅射靶材、磁场系统、真空室、气体供应系统和控制系统等。在溅射过程中，通过调整磁场、气体压力和溅射功率等参数，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪，配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选，用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧，功能出色、配置齐全，兼容超净间，性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等，广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
技术参数：
设备名称 | 分体式单靶磁控溅射仪 |
电源 | AC220V/50HZ |
射频电源（选配） | 输入电源：220V |
输入功率：0-300W | |
输入频率：13.56MHZ | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
直流电源（选配） | 输入电源：220V |
直流输出功率：0-500W | |
最大工作电流：0.75A | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法兰盖为304不锈钢材质，上法兰盖为铝材质 | |
腔室极限真空度 | |
配置机械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法兰盖上带有手动泄压阀 | |
样品台 | 一个直径为⌀50mm的不锈钢样品台，样品台可转动，旋转速率为0.5-5RPM/min |
样品台标配加热功能，样品台最高加热温度500℃ | |
可以根据客户需要选配样品台冷却功能，样品台冷却最低温度5℃ | |
溅射靶头 | 标配2尺寸的磁控溅射头，内部嵌有冷却水管，可以通水冷实现对磁钢和靶材的冷却，从而能够可以长时间进行溅射 |
配有一手动操作的挡板，当第一次溅射清楚靶材表面的氧化层和污物层，挡住基片，防止污染基片 | |
样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围60-80mm（可根据客户要求选配1英寸的磁控溅射头） | |
靶材 | 设备配有一块铜靶材，尺寸：⌀50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根据客户要求选配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：⌀50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主机尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保质期 | 1年（不包含喷头、加热元件、注射器等损耗件） |
小型磁控溅射仪通常采用磁控溅射技术，具有结构紧凑、操作简便、性能稳定等特点。其核心部件包括溅射靶材、磁场系统、真空室、气体供应系统和控制系统等。在溅射过程中，通过调整磁场、气体压力和溅射功率等参数，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪，配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选，用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧，功能出色、配置齐全，兼容超净间，性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等，广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
技术参数：
设备名称 | 分体式单靶磁控溅射仪 |
电源 | AC220V/50HZ |
射频电源（选配） | 输入电源：220V |
输入功率：0-300W | |
输入频率：13.56MHZ | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
直流电源（选配） | 输入电源：220V |
直流输出功率：0-500W | |
最大工作电流：0.75A | |
冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法兰盖为304不锈钢材质，上法兰盖为铝材质 | |
腔室极限真空度 | |
配置机械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法兰盖上带有手动泄压阀 | |
样品台 | 一个直径为⌀50mm的不锈钢样品台，样品台可转动，旋转速率为0.5-5RPM/min |
样品台标配加热功能，样品台最高加热温度500℃ | |
可以根据客户需要选配样品台冷却功能，样品台冷却最低温度5℃ | |
溅射靶头 | 标配2尺寸的磁控溅射头，内部嵌有冷却水管，可以通水冷实现对磁钢和靶材的冷却，从而能够可以长时间进行溅射 |
配有一手动操作的挡板，当第一次溅射清楚靶材表面的氧化层和污物层，挡住基片，防止污染基片 | |
样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围60-80mm（可根据客户要求选配1英寸的磁控溅射头） | |
靶材 | 设备配有一块铜靶材，尺寸：⌀50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根据客户要求选配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：⌀50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主机尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保质期 | 1年（不包含喷头、加热元件、注射器等损耗件） |
小型磁控溅射仪通常采用磁控溅射技术，具有结构紧凑、操作简便、性能稳定等特点。其核心部件包括溅射靶材、磁场系统、真空室、气体供应系统和控制系统等。在溅射过程中，通过调整磁场、气体压力和溅射功率等参数，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
